特許
J-GLOBAL ID：200903057728668536
レーザ光照射光学装置
発明者：
,
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
山本 秀策
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-255072
公開番号（公開出願番号）：特開平6-102466
出願日： 1992年09月24日
公開日（公表日）： 1994年04月15日
要約：
【要約】【目的】 1ショットで大面積の被照射体の処理を可能にする。【構成】 複数光源1からの各々の光束を均一光学系3によって均一な強度分布を持つ1つの光束にするので、その光束としては高出力となる。光束加工光学系2を備える場合は、複数の光源1からの各々の光束間の距離を短くして、均一光学系3の全入射領域を可及的に照射する光束に加工できるので、より均一な強度分布で均一光学系3に光を照射することができる。ビームエキスパンダ及びシリンドリカルレンズで構成された光束整形光学系を備える場合は、シリンドリカルレンズの設計を変えることで、光束整形光学系から出射する光の断面形状を被照射体5に合わせるように変えることができる。
請求項（抜粋）：
複数の光源と、該複数の光源からの各光束を平行にして導く光束加工光学系と、該光束加工光学系を経た複数の光束を入射し、均一な強度分布を持つ1つの光束にして出射する均一光学系と、該均一光学系からの出射光を集光して被照射体に照射する集光光学系とを備えたレーザ光照射光学装置。
IPC (2件)：
前のページに戻る
