特許
J-GLOBAL ID：200903057731737808
シリカ基材非反射性平面化層
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
西山 善章
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-261270
公開番号（公開出願番号）：特開平5-027444
出願日： 1991年09月13日
公開日（公表日）： 1993年02月05日
要約：
【要約】【目的】半導体シリコンウェーハ等の基板上に非反射性平面化層を与えるのに使用する、炭素含有量の高い染色したスピンオングラス組成物である。【構成】本スピンオングラス組成物は、光を吸収する有機染料を含んだ架橋したポリオルガノシロキサンポリマー溶液を含む。このポリオルガノシロキサンポリマーは少なくとも30原子量%の炭素とアミノオルガノトリアルコキシランとを含有する。このアルコキシ群は1ないし4の炭素原子を有する。【効果】これらの層はこれに設けたパターンをエッチングすることによりハードマスクとして使用できる。これらのハードマスクは多重層レジスタストとして使用し、またリトグラフィーマスクの作成に使用することができる。
請求項（抜粋）：
架橋ポリオルガノシロキサンと350°C-500°Cで安定な光吸収性の染料との溶液を含む染色したスピンオングラス組成物であって該ポリオルガノシロキサンが少なくとも30原子量パーセントの炭素とアミノオルガノトリアルコキシランとを含有し、該アルコキシ群が1-4の炭素原子を含むことを特徴とする染色したスピンオングラス組成物。
IPC (5件)：
G03F 7/11 502
, G03F 1/08
, G03F 1/14
, G03F 7/075 511
, H01L 21/027
