特許
J-GLOBAL ID：200903057733022849
ギ酸資化性メタン生成菌の培養方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
志賀 富士弥 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-284515
公開番号（公開出願番号）：特開平10-127276
出願日： 1996年10月28日
公開日（公表日）： 1998年05月19日
要約：
【要約】【課題】 酸性のメタノール廃水を対象としてメタン生成に最適なpHの範囲よりも低いpHでも対処可能であり、メタン発酵処理技術の実用化をはかることができるギ酸資化性メタン生成菌の培養方法の提供を目的とする。【解決手段】 メタノールを基質とし、該メタノールを直接資化する最適pHよりも若干低いpHに調整して、重炭酸ナトリウムの添加もしくは無添加の条件下でメタン発酵を行い、これに基質としてギ酸を添加して培養を行うことにより、低pH耐性と非電離の揮発性有機酸に対する耐性が良好なメタン生成菌を集積培養するようにしたギ酸資化性メタン生成菌の培養方法を提供する。前記低pH条件はpH5.0〜pH5.8である。
請求項（抜粋）：
メタノールを基質とし、該メタノールを直接資化する最適pHよりも若干低いpHに調整して、重炭酸ナトリウムの添加もしくは無添加の条件下でメタン発酵を行い、これに基質としてギ酸を添加して培養を行うことにより、低pH耐性と非電離の揮発性有機酸に対する耐性が良好なメタン生成菌を集積培養することを特徴とするギ酸資化性メタン生成菌の培養方法。
IPC (3件)：
C12N 1/38
, C02F 3/34
, C12R 1:01
