特許
J-GLOBAL ID：200903057738222366
エネルギーサブトラクション処理方法および装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
柳田 征史 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-094709
公開番号（公開出願番号）：特開平8-294054
出願日： 1995年04月20日
公開日（公表日）： 1996年11月05日
要約：
【要約】【目的】 エネルギーサブトラクション処理装置において、被写体の各部分毎にビームハードニングの程度が異なっても、その影響を十分に低減させるとともに、濃度が急峻に変化するエッジ部分においてもアーティファクトの形成を低減した高画質のサブトラクション画像を得る。【構成】 エネルギー状態の異なる2つの画像信号Dorg(1),Dorg(2)が内部メモリより読み出され、非鮮鋭マスク信号算出手段31は、この2つの信号Dorg(1),Dorg(2)の平均画像信号Dmeanを算出し、画像のエッジを横切る方向に短辺を有する縦長長方形の非鮮鋭マスクを用いて、画像信号上で非鮮鋭マスク信号Luを算出する。このマスク信号Luは、エッジ部を横切る方向に短辺を有する非鮮鋭マスクに基づくものであるため、エッジ部の急峻な濃度変化に追従しやすくなり、このマスク信号Luに基づいてサブトラクション用パラメータを設定することにより、エッジ部分におけるアーティファクトの形成を抑制する。
請求項（抜粋）：
互いにエネルギーの異なる複数の放射線を該複数の放射線に対して互いに放射線吸収率の異なる複数の組織から構成される被写体に照射して得られた複数の放射線画像のそれぞれを表わす複数の画像データのうちの一つの画像データの、もしくはこれら複数の画像データに基づいて求められた前記複数の放射線画像の平均的な画像を表わす画像データの、超低空間周波数に対応する非鮮鋭マスク信号Luに応じて、各画素毎にサブトラクション処理のパラメータを変更しながら、該各画素についてサブトラクション処理を行なうエネルギーサブトラクション処理方法において、前記非鮮鋭マスク信号Luを、前記非鮮鋭マスク信号Luを得るための非鮮鋭マスク内における全画素の画像データの中央値としたことを特徴とするエネルギーサブトラクション処理方法。
IPC (4件)：
H04N 5/325
, A61B 6/00 333
, G06T 1/00
, G06T 5/20
A61B 6/00 350 S
, A61B 6/00 333
, G06F 15/62 390 A
, G06F 15/68 405
