特許

J-GLOBAL ID：200903057753408654

ガラス基板用熱処理装置

発明者： 藤野 晃弘 ,  谷川 繁義
出願人/特許権者： 昭和鉄工株式会社
代理人 (2件)： 松尾 憲一郎 ,  内野 美洋
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-307404
公開番号（公開出願番号）：特開2004-144337
出願日： 2002年10月22日
公開日（公表日）： 2004年05月20日
要約：

【課題】炉体内部に面状ヒータを多段に設けたガラス基板用熱処理装置において、最上段や最下段の面状ヒータのように、片側方向にしか他の面状ヒータが位置せず、両側方向に他の面状ヒータが位置する面状ヒータに比べて熱が逃げやすく、温度が上昇しにくい面状ヒータであったとしても、低コストで他の面状ヒータと同様に温度を上昇させることができるガラス基板用熱処理装置を提供すること。【構成】最上段及び/又は最下段に設けた面状ヒータに、放熱を防止するための放熱防止用被覆体を設けた。【選択図】 図3

請求項（抜粋）：

炉体内部に面状ヒータを多段に設けたガラス基板用熱処理装置において、 最上段及び/又は最下段に設けた面状ヒータに、放熱を防止するための放熱防止用被覆体を設けたことを特徴とするガラス基板用熱処理装置。

IPC (3件)：

F27B17/00 ,  C03B32/00 ,  F27D11/02

FI (3件)：

F27B17/00 C ,  C03B32/00 ,  F27D11/02 A

Fターム (9件)：

4G015EA00 ,  4K063AA05 ,  4K063AA06 ,  4K063AA12 ,  4K063BA06 ,  4K063BA12 ,  4K063CA03 ,  4K063FA09 ,  4K063FA19

引用特許：

審査官引用 (1件)

• 半導体製造装置の基板加熱装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-053787   出願人：国際電気株式会社