特許
J-GLOBAL ID:200903057762719697

製造不良解析システム、方法およびこれに関連したデータベースの生成方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 高橋 明夫 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平7-090942
公開番号(公開出願番号):特開平8-287154
出願日: 1995年04月17日
公開日(公表日): 1996年11月01日
要約:
【要約】【目的】製品の製造不良を解析する製造不良解析システムおよび方法において、設計条件に起因する不良傾向と不良現象の対応データを備えることによって、設計段階の設計条件によって生ずる不良原因の早期究明、能率的な原因究明をおこなう。【構成】製造不良解析システムにおいて、不良傾向抽出機能により、不良の発生原因とその不良の発生原因となりうる設計条件とを設定した傾向チェック項目と、不良の発生現象と傾向チェック項目を特定する識別子とを設定した因果関係データとにより、不良の発生現象からその不良の発生原因となりうる設計条件を検索し、提示する。
請求項(抜粋):
製品の製造時における不良発生原因を、製造工程における製造条件または製品の設計条件から究明する製造不良解析システムにおいて、不良傾向の抽出をおこなう不良傾向抽出機能を有し、不良の発生原因とその不良の発生原因となりうる設計条件とを設定した傾向チェック項目を記憶した傾向チェック項目データベースと、不良の発生現象と前記傾向チェック項目を特定する識別子とを設定した因果関係データを記憶した因果関係データベースとを備え、前記不良傾向抽出機能が、前記因果関係データベースと前記傾向チェック項目データベースとにより、不良の発生現象からその不良の発生原因となりうる設計条件を検索し、提示することを特徴とする製造不良解析システム。
IPC (3件):
G06F 17/60 ,  G06F 17/30 ,  H01L 21/02
FI (3件):
G06F 15/21 R ,  H01L 21/02 Z ,  G06F 15/40 370 Z

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