特許

J-GLOBAL ID：200903057769522392

再生ヘッド及びその作製方法並びに磁気ディスク装置

発明者： 小室 又洋 ,  芳田 伸雄 ,  府山 盛明
出願人/特許権者： 株式会社日立製作所
代理人 (1件)： 小川 勝男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-022961
公開番号（公開出願番号）：特開平11-224411
出願日： 1998年02月04日
公開日（公表日）： 1999年08月17日
要約：

【要約】【課題】巨大磁気抵抗効果膜を有する再生ヘッドの製作では、電極間隔を決定するフォトマスクと磁区制御間隔を決定するフォトマスクの2枚のフォトマスクを用いる必要があり、2枚のフォトマスク間の合わせ精度が問題となる。【解決手段】磁気抵抗効果膜上の電極膜と磁区制御膜上の電極膜が異なる材料から構成されているか、あるいは磁気抵抗効果膜端部に沿って電極膜の形状あるいは結晶粒が不連続にすることにある。

請求項（抜粋）：

磁気ディスク装置に用いる磁気記録再生ヘッドの再生部が感磁部,磁区制御膜,ギャップ膜,電極を有しており、磁気抵抗効果膜上の電極膜と磁区制御膜上の電極膜が異なる材料から構成されているか、あるいは磁気抵抗効果膜端部に沿って電極膜の形状あるいは結晶粒が不連続になっていることを特徴とする再生ヘッド。