ガス濃度測定装置

発明者： , ,
出願人/特許権者： ,
代理人 (1件)：西村教光
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-055453
公開番号（公開出願番号）：特開平8-247889
出願日： 1995年03月15日
公開日（公表日）： 1996年09月27日
要約：

【要約】【目的】測定光路中の反射による半導体レーザへの戻り光を軽減し、ガス濃度測定システムの測定系を乱すことなくガス濃度を校正する。【構成】受光部2の本体をなす筐体21内で、非球面レンズ22と受光モジュール25との間には、気密保持された校正用ガス室33を形成するセル筐体34が収容される。セル筐体34には、校正用ガス室33への校正用ガスの注入、排出を行うためのガス取入パイプ53aとガス排出パイプ53bが上面より突出して並設される。校正対象となる濃度のガスはガス取入パイプ53aより注入され、所定濃度間隔でガス濃度検出値の校正が行なわれる。新たに異なる濃度のガスによる校正を行う場合には、校正用ガス室33内のガスをガス排出パイプ53bより排出し、次の校正対象となる濃度のガスをガス取入パイプ53aより注入する。

請求項（抜粋）：

半導体レーザ(14)を有する光源部(1)と、該光源部より所定距離(L)隔てて前記半導体レーザの光路上に配置され、該半導体レーザからの光を集光レンズ(22)で集光して受光器モジュール(25)で受光する受光部(2)と、該受光部が受光した光による電気信号に基づいて前記光源部と前記受光部との間におけるガス濃度を計測する計測部(3)とを備えたガス濃度測定装置において、前記受光部内の少なくとも前記集光レンズと前記受光器モジュールとの間に気密保持された校正用ガス室(33)と、該校正用ガス室に連通して校正用ガスが注入・排出されるガス注入・排出口(53)とを備え、該ガス注入・排出口より前記校正用ガス室に校正用ガスを注入して前記計測部が計測するガス濃度を校正することを特徴とするガス濃度測定装置。

IPC (5件)：

G01M 3/38 , G01M 3/02 , G01M 3/04 , G01N 21/35 , G01N 21/39

FI (6件)：

G01M 3/38 K , G01M 3/38 L , G01M 3/02 A , G01M 3/04 F , G01N 21/35 Z , G01N 21/39

前のページに戻る