特許

J-GLOBAL ID：200903057782931390

新規含フツ素フタロシアニン化合物、その製造方法、およびそれらを含んでなる近赤外線吸収材料

発明者： 海江田 修 ,  吉年 孝司 ,  伊東 秀記 ,  小野崎 美穂
出願人/特許権者： 株式会社日本触媒
代理人 (1件)： 青木 朗 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-042586
公開番号（公開出願番号）：特開平5-078364
出願日： 1992年02月28日
公開日（公表日）： 1993年03月30日
要約：

【要約】 (修正有)【構成】 下記一般式(I):〔式中、Xはフッ素原子、OR1 Za〜d,SR2Ze〜h,OR3 、又はSR4 (ただし、R1 及びR2 はフェニル基又はベンジル基、R3 及びR4 はC1〜20のアルキル基、又はC4〜C6のシクロアルキル基を表し、Zはスルホン基を表す)を表わし、YはOR5 Zi〜l、又はSR6 Zm〜p(R5 及びR6 はフェニル基又はベンジル基、Zはスルホン基を表す)を表し、a〜pは0〜7の整数であり、Mは無金属、金属、金属酸化物、金属カルボニルまたは金属ハロゲン化物を表わす〕で表わされる650〜900nmの近赤外域に吸収を有する新規なフタロシアニン化合物、及びその製造方法。【効果】 アルコール性溶媒溶解性に優れ、半導体レーザを使う光記録媒体、液晶表示装置、腫瘍治療用感光性色素等に使用される可溶型の近赤外線吸収色素として有用である。

請求項（抜粋）：

下記一般式(I):【化1】〔式中、Xは相互に独立に、フッ素原子、OR1 Za〜d,SR2 Ze〜h,OR3 、又はSR4 (ただし、R1 及びR2 は相互に独立にフェニル基又はベンジル基であり、該フェニル基又はベンジル基は炭素数1〜4のアルキル基、アルコキシル基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基又はハロゲンで置換されていてもよく、R3 及びR4 は相互に独立にC1〜C20のアルキル基、又はC4〜C6のシクロアルキル基を表し、Zはスルホン基を表す)を表わし、Yは相互に独立に、OR5 Zi〜l、又はSR6 Zm〜p(R5 及びR6 は相互に独立にフェニル基又はベンジル基であって、該フェニル基又はベンジル基は炭素数1〜4のアルキル基、アルコキシル基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基又はハロゲンで置換されていてもよく、Zはスルホン基を表す)を表し、a〜pは0〜7の整数でありかつa〜pの総和は1以上であり、Mは無金属、金属、金属酸化物、金属カルボニルまたは金属ハロゲン化物を表わす〕で示される新規含フッ素フタロシアニン化合物。

IPC (7件)：

C07D487/22 ,  A61K 31/40 ADU ,  B41M 5/30 ,  B41M 5/26 ,  C09B 47/24 ,  C09K 3/00 105 ,  G02F 1/13 500

FI (2件)：

B41M 5/26 K ,  B41M 5/26 Y