特許
J-GLOBAL ID：200903057795778567
希釈ガスを使用するZピンチの柔らかいX線源
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
社本 一夫 (外5名)
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-537414
公開番号（公開出願番号）：特表2002-507832
出願日： 1999年03月09日
公開日（公表日）： 2002年03月12日
要約：
【要約】プラズマX線源は、中心軸線14を有するピンチ領域12を画成するチャンバ10と、ガス混合体をピンチ領域内に導入するガス供給源と、ガス混合体をピンチ領域内で予イオン化すべくピンチ領域の周りに配置された予イオン化装置と、ピンチ領域の両端に配置されたピンチアノード30及びピンチカソード32とを備えている。ガス混合体は、キセノンのような主要なX線放射ガスと、ヘリウムのような原子番号の小さい稀釈ガスとを含む。ピンチアノード及びピンチカソードは、軸方向に向けてプラズマ殻体を通じて電流を発生させ且つピンチアノード及びピンチカソードへの高エネルギの電気的パルスの印加に応答して、ピンチ領域内にて方位磁界を発生させる。方位磁界によりプラズマ殻体56は中心軸線に対して潰れ且つX線を発生させる。ガス混合体は、放射線の強さを増し且つ主要なX線放射ガスのコストを軽減する。
請求項（抜粋）：
プラズマX源において、 中心軸線を有するピンチ領域を画成するチャンバと、 主要なX線放射ガスと、原子番号の小さい稀釈ガスとから成るガス混合体を前記ピンチ領域内に導入するガス供給源と、 ガス混合体を前記ピンチ領域内で予イオン化し、前記中心軸線の周りに対称のプラズマ殻体を形成し得るよう前記ピンチ領域に近接して配置された予イオン化装置と、 ピンチアノード及びピンチカソードであって、前記プラズマ殻体を通じて軸方向に電流を発生させると共に、該ピンチアノード及び前記ピンチカソードへの高エネルギの電気的パルスの印加に応答して、前記ピンチ領域内で方位磁界を発生させ、これにより、前記方位磁界により前記プラズマ殻体が前記中心軸線に対して潰れ且つX線を発生させるように、前記ピンチ領域の両端に配置されたピンチアノード及びピンチカソードとを備える、プラズマX線源。
Fターム (1件)：
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