特許
J-GLOBAL ID：200903057804260827
エラストマー補強充填剤用沈降シリカ
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
倉内 基弘 (外1名)
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-500307
公開番号（公開出願番号）：特表平11-513976
出願日： 1998年05月15日
公開日（公表日）： 1999年11月30日
要約：
【要約】本発明はエラストマー用補強充填材として用いる沈降シリカを製造するための新規な製法に関する。本発明はまた粉末、顆粒又は実質的に球形のビーズ形状の沈降シリカであって、BET比表面積が185〜240m2/g、CTAB比表面積が180〜240m2/g、直径が175〜275Åの孔により形成される孔容積V2が直径が400Å未満の孔により形成される孔容積V1の50%未満であるような孔分布、直径が1μm未満の孔により形成される孔容積(Vdl)が1.65cm3/g以上、微粉度値(FV)が70〜100Å、超音波による解凝集後の微粒子含量(τf)が少なくとも50%である沈降シリカに関する。
請求項（抜粋）：
ケイ酸塩を酸化剤と反応させ、それにより沈降シリカの懸濁液を得て、その後この懸濁液を分離し乾燥させるタイプの沈降シリカの製法であって、 - (i) 反応に用いられるケイ酸塩の全量の少なくとも一部及び少なくとも一つの電解質を含み、最初の貯蔵中のケイ酸塩(SiO2で表す。)の濃度が50〜60g/lである初期貯蔵液を形成し、(ii)反応媒体のpHが7〜8.5になるまで前記酸化剤を前記貯蔵液に加え、(iii)前記酸化剤を、必要に応じてケイ酸塩の残量と共に同時に反応媒体に加えることにより前記沈降が行われ、 - 前記分離が圧密手段を備えたフィルターを用いたろ過及び洗浄操作から成り、 - 固形分が17重量%以下である懸濁液がスプレー乾燥されることを特徴とする沈降シリカの製法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
引用特許：
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