特許
J-GLOBAL ID：200903057815425003
レジスト組成物
発明者：
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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-084729
公開番号（公開出願番号）：特開平8-254828
出願日： 1995年03月16日
公開日（公表日）： 1996年10月01日
要約：
【要約】【目的】 新規な感放射線性レジスト組成物を提供する。【構成】 置換アリルオキシ基を含む基を導入したビニルフェノール、ビニルフェノール単位および酸不安定性基を導入したメタクリレート単位を有する重合体と活性化放射線の照射により酸を発生する放射線感応性成分を含むことを特徴とするレジスト組成物。
請求項（抜粋）：
一般式(1)、(2)および(3)【化1】【化2】【化3】(式(1)〜(3)中、R<SP>1</SP>〜R<SP>3</SP>はそれぞれ独立に水素原子、炭素数1〜4の置換可アルキル基、ハロゲン原子、シアノ基またはニトロ基であり、R<SP>4</SP>は次式(4)【化4】(式(4)中、R<SP>6</SP>〜R<SP>10</SP>は同一又は互いに異なってもよく、水素原子、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、置換可アルキル基、置換可アルケニル基、置換可アルカジエニル基または置換可ビニル基であり、R<SP>6</SP>〜R<SP>10</SP>のうち少なくとも二つは水素原子以外の置換基である。R<SP>6</SP>とR<SP>9</SP>、R<SP>8</SP>とR<SP>10</SP>、R<SP>9</SP>とR<SP>10</SP>はそれぞれ独立して環を形成していてもよい。また、R<SP>6</SP>〜R<SP>10</SP>はいずれもそれぞれ独立に炭素数12以下である。Aは単結合または二価の有機基である。)であり、R<SP>5</SP>は直鎖、分岐もしくは環状の置換可アルキル基または次式(5)【化5】(式(5)中、R<SP>11</SP>は置換可アルキル基または置換可アルケニル基であり、R<SP>12</SP>〜R<SP>15</SP>は水素原子、ハロゲン原子または置換可アルキル基であり、R<SP>12</SP>〜R<SP>15</SP>のうち少なくとも一つは水素原子である。Bは二価の有機基である。)である。式(1)〜(3)中のk、m、nは各構成単位の割合を表し、重合体中の各構成単位の割合の合計が1であるとき、0<k<0.95、0<m<0.95、0.05≦n≦0.6、0.1≦k/(k+m)<1である。)で表される構造単位を有する重合体と活性化放射線に照射されると酸を生成する放射線感応性成分とを含有することを特徴とするレジスト組成物。
IPC (4件)：
G03F 7/039 501
, G03F 7/004 503
, G03F 7/033
, H01L 21/027
G03F 7/039 501
, G03F 7/004 503
, G03F 7/033
, H01L 21/30 502 R
