特許

J-GLOBAL ID：200903057852870645

少なくとも1個の窒素含有ヘテロ環を有するシクロデキストリン誘導体、該シクロデキストリン誘導体の製造法、該シクロデキストリン誘導体を含有する溶液および組成物、多色リトグラフィ用の選択性分離剤並びに上記誘導体を共有結合した形で有する膜、シート、フィルム、繊維材料および皮革

発明者： ヘルムート ロイシャー ,  ロルフ ヒルゼンコルン ,  ヴォルフガング ハース
出願人/特許権者： コンゾルテイウム フユール エレクトロケミツシエ インヅストリー ゲゼルシヤフト ミツト ベシユレンクテル ハフツング
代理人 (1件)： 矢野 敏雄 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-208869
公開番号（公開出願番号）：特開平8-067702
出願日： 1995年08月16日
公開日（公表日）： 1996年03月12日
要約：

【要約】【課題】 シクロデキストリンとエピクロロヒドリンとの反応による公知方法の場合のように毒性化合物が生じることはない反応性のシクロデキストリン誘導体。【解決手段】 本発明によるシクロデキストリン誘導体は、式I:【化1】で示される。【効果】 原料となるβ-またはγ-シクロデキストリンを反応後にクロマトグラムによりもはや検出することがない。

請求項（抜粋）：

反応性シクロデキストリン誘導体において、該反応性シクロデキストリン誘導体が、少なくとも1個の求電子性の中心を有する少なくとも1個の窒素含有ヘテロ環を有していることを特徴とする、反応性シクロデキストリン誘導体。