特許

J-GLOBAL ID：200903057853118939

薄膜磁気ヘッドの製造方法

発明者： 沢田 修一 ,  中嶋 敏博
出願人/特許権者： ヤマハ株式会社
代理人 (1件)： 加藤 邦彦 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-355092
公開番号（公開出願番号）：特開平5-174320
出願日： 1991年12月20日
公開日（公表日）： 1993年07月13日
要約：

【要約】【目的】 薄膜磁気ヘッドを構成する各層の積層が進んで基板上で凸部が高くなった状態で、さらにその上に積層を重ねる場合に、レジスト厚の均一化を図ってフレーム切れや凸部の周囲の凹部でレジスト厚が厚くなりすぎたりレジストの現像残りが生じるのを防止する。【構成】 凸部40には薄膜磁気ヘッドの各層が途中まで積層されている。その上にさらに層を積層する場合、次の工程?@〜?Eを行なう。?@基板10全体にレジスト52をスピンコートする。?Aマスク54を当てて露光し、凸部40のレジスト52aを残す。?Bこれでまだ凸部40に十分な厚さのレジストが形成されてなければ、レジスト56をスピンコートする。?Cマスク58を当てて露光し、凸部40のレジスト56aを残す。?Dレジスト58を全体にスピンコートする。これで全体に均一なレジスト膜が形成される。?E目的とする層のパターンが描かれたマスク60を当てて露光し、現像してこの層を形成する。

請求項（抜粋）：

基板上に薄膜磁気ヘッドを構成する各層を順次積層して薄膜磁気ヘッドを製造する方法であって、下層を構成する凸部にレジストを形成し、その上に前記凸部およびその周囲の凹部にかけてレジストを塗布し、その上にマスクを配置して露光し現像することにより上層を形成する工程を含み、前記凸部にレジストを形成する工程が、当該凸部およびその周囲の凹部にかけてレジストを塗布する第1工程と、この塗布されたレジストのうち前記凹部に相当する部分を除去する第2工程とを具備することを特徴とする薄膜磁気ヘッドの製造方法。