水素化処理触媒と使用方法

発明者： , , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (6件)：特許業務法人浅村特許事務所 , 浅村皓 , 浅村肇 , 安藤克則 , 池田幸弘 , 浅野裕一郎
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2009-522998
公開番号（公開出願番号）：特表2009-545441
出願日： 2007年07月31日
公開日（公表日）： 2009年12月24日
要約：

本発明は、水素化処理に有効な触媒組成物と、この触媒を用いる方法に関する。該触媒組成物は、相乗効果的に作用する3つの酸性成分を含み、該成分のいずれか単独と又は2成分の組み合わせと比較した場合に、強化された触媒活性を生じる。該成分の2つは大口径ゼオライトであり、第3成分は、粘土及びアモルファス・シリカ/アルミナを含む群から選択される。

請求項（抜粋）：

炭化水素フィードストックの水素化処理に適した触媒組成物であって、相乗効果的に作用する3つの酸性成分を含み、該成分のいずれかの単独又は2成分の組み合わせと比較した場合に、強化された触媒活性を生じる触媒組成物。

IPC (2件)：

B01J 29/80 , C10G 47/16

FI (2件)：

B01J29/80 M , C10G47/16

Fターム (68件)：

4G169AA03 , 4G169AA08 , 4G169BA01A , 4G169BA02A , 4G169BA03A , 4G169BA03B , 4G169BA04A , 4G169BA05A , 4G169BA06A , 4G169BA07A , 4G169BA07B , 4G169BA10A , 4G169BA42A , 4G169BC60A , 4G169BC60B , 4G169BC68A , 4G169BC68B , 4G169CC02 , 4G169CC05 , 4G169EC11X , 4G169EC12X , 4G169EC13X , 4G169EC14X , 4G169EC15X , 4G169EC26 , 4G169ZA01A , 4G169ZA03A , 4G169ZA04A , 4G169ZA05A , 4G169ZA05B , 4G169ZA06A , 4G169ZA07A , 4G169ZA16A , 4G169ZA19A , 4G169ZA19B , 4G169ZA35A , 4G169ZA41A , 4G169ZC04 , 4G169ZF05A , 4G169ZF05B , 4G169ZF07A , 4G169ZF07B , 4H129AA02 , 4H129KA12 , 4H129KB03 , 4H129KB05 , 4H129KC10X , 4H129KC10Y , 4H129KC14X , 4H129KC14Y , 4H129KC17X , 4H129KC17Y , 4H129KC18X , 4H129KD13X , 4H129KD16X , 4H129KD16Y , 4H129KD18X , 4H129KD21X , 4H129KD23X , 4H129KD24X , 4H129KD24Y , 4H129KD44X , 4H129KD44Y , 4H129NA02 , 4H129NA04 , 4H129NA17 , 4H129NA32 , 4H129NA35

引用特許：

審査官引用 (6件)

特表平5-506400
触媒組成物の製造方法
公報種別：公表公報出願番号：特願2000-563395 出願人：シエル・インターナシヨネイル・リサーチ・マーチヤツピイ・ベー・ウイ
特表平3-505839

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引用文献：

審査官引用 (1件)

1.1.4 代表的なゼオライトの構造

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