特許
J-GLOBAL ID：200903057863969309
シリカ粒子の製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
大西 浩
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-233418
公開番号（公開出願番号）：特開平7-089711
出願日： 1993年09月20日
公開日（公表日）： 1995年04月04日
要約：
【要約】【目的】 粒子の合着がなく、粒径が約1μm 以上で且つ粒度分布の狭い(例えば、粒径の変動係数が5%以下)粒度の揃ったシリカ粒子を得る。【構成】 アルコキシシランを、水及びアルコールを含有するアルカリ性溶液中で、加水分解してシリカ粒子を製造する方法(ゾル-ゲル法)において、先ず、0〜10°Cで0.5〜3時間反応させることにより、シリカのシード粒子を生成させ、次いで、1時間当たり5〜8°Cの昇温速度で15〜20°Cまで昇温させることにより、シード粒子の表面にシリカを生成させ、シード粒子を成長させて、目的のシリカ粒子を得る。
請求項（抜粋）：
アルコキシシランを、水及びアルコールを含有するアルカリ性溶液中で、加水分解してシリカ粒子を製造する方法において、先ず、0〜10°Cで0.5〜3時間反応させることにより、シリカのシード粒子を生成させ、次いで、1時間当たり5〜8°Cの昇温速度で15〜20°Cまで昇温させることにより、シード粒子の表面にシリカを生成させ、シード粒子を成長させることを特徴とするシリカ粒子の製造方法。
引用特許：
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