イオン源のクリーニング方法

発明者： , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：山本惠二
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-082608
公開番号（公開出願番号）：特開平6-267475
出願日： 1993年03月16日
公開日（公表日）： 1994年09月22日
要約：

【要約】【目的】イオン源のプラズマ室内の付着物を簡単に除去することができるイオン源のクリーニング方法を提供する。【構成】試料36に対するイオン注入時以外の時に、水素ガスをガス6としてプラズマ室4に供給して、これを用いてイオン源2内で水素プラズマ8を発生させる処理を行う。

請求項（抜粋）：

イオン源から引き出したイオンビームを質量分離を行うことなく処理室内の試料に照射する非質量分離型のイオンビーム照射装置において、試料に対するイオンビーム照射時以外の時に、前記イオン源において水素プラズマを発生させることを特徴とするイオン源のクリーニング方法。

IPC (4件)：

H01J 37/08 , C23C 14/48 , H01J 37/317 , H01L 21/265

引用特許：

審査官引用 (3件)

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