特許

J-GLOBAL ID：200903057878521827

有害ガスの浄化方法

発明者： 島田 孝 ,  奥村 敏雄 ,  畠山 俊哉
出願人/特許権者： 日本パイオニクス株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-139269
公開番号（公開出願番号）：特開平6-327932
出願日： 1993年05月19日
公開日（公表日）： 1994年11月29日
要約：

【要約】【目的】 半導体製造工程などで使用され、排ガス中などに含まれてくるアルコキシド系のガスを安全、かつ、効率よく除去する。【構成】 アルコキシドを含有するガスを、酸化銅(II)および酸化マンガン(IV)を主成分とする金属酸化物に水酸化カリウムなどのアルカリ化合物を添着させた浄化剤と接触させる。

請求項（抜粋）：

有害成分となるアルコキシド化合物を含有するガスを、酸化銅(II)および酸化マンガン(IV)を主成分とする金属酸化物にアルカリ金属化合物を添着せしめてなる浄化剤と接触させ、該ガスから有害成分を除去することを特徴とする有害ガスの浄化方法。

IPC (2件)：

B01D 53/34 120 ,  B01D 53/34 ZAB