特許

J-GLOBAL ID：200903057880494551

金属酸化物薄膜の製造方法

発明者： 牧野 健哉
出願人/特許権者： 日亜化学工業株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-350218
公開番号（公開出願番号）：特開2001-163606
出願日： 1999年12月09日
公開日（公表日）： 2001年06月19日
要約：

【要約】【課題】組成の明確且つ均一な金属酸化物薄膜、特に2種以上の金属を含有する金属酸化物複合体の薄膜を容易に製造できる新規な製造方法を提供する。【解決手段】 高分子重合体配位子が金属に配位されてなる高分子金属錯体の溶液を基板に塗布し、その塗膜を焼成する金属酸化物薄膜の製造方法である。

請求項（抜粋）：

高分子重合体配位子が金属に配位されてなる高分子金属錯体の溶液を基板に塗布し、その塗膜を焼成することを特徴とする金属酸化物薄膜の製造方法。

IPC (11件)：

C01B 13/32 ,  B05D 7/24 302 ,  C01F 7/02 ,  C01F 17/00 ,  C01G 1/02 ,  C01G 9/02 ,  C01G 15/00 ,  C01G 23/00 ,  C01G 25/00 ,  C01G 25/02 ,  C23C 22/74

FI (11件)：

C01B 13/32 ,  B05D 7/24 302 E ,  C01F 7/02 A ,  C01F 17/00 A ,  C01G 1/02 ,  C01G 9/02 A ,  C01G 15/00 E ,  C01G 23/00 C ,  C01G 25/00 ,  C01G 25/02 ,  C23C 22/74

Fターム (44件)：

4D075BB28Z ,  4D075BB92Z ,  4D075CA47 ,  4D075DA06 ,  4D075DB14 ,  4D075DC22 ,  4D075EB22 ,  4D075EB32 ,  4G042DA01 ,  4G042DA02 ,  4G042DB10 ,  4G042DD02 ,  4G042DE04 ,  4G042DE07 ,  4G042DE09 ,  4G042DE14 ,  4G047AA02 ,  4G047AB01 ,  4G047AB02 ,  4G047AD02 ,  4G047CA02 ,  4G047CB05 ,  4G047CD02 ,  4G048AA02 ,  4G048AA03 ,  4G048AB01 ,  4G048AB02 ,  4G048AD02 ,  4G048AE06 ,  4G048AE08 ,  4G076AA02 ,  4G076AB04 ,  4G076AB13 ,  4G076BA39 ,  4G076CA10 ,  4K026BA08 ,  4K026BB10 ,  4K026CA16 ,  4K026CA18 ,  4K026CA38 ,  4K026CA39 ,  4K026DA02 ,  4K026DA16 ,  4K026EB11