特許

J-GLOBAL ID：200903057880953289

水酸基が保護されたフェノール性化合物の製造方法、及びこれを用いた感放射線組成物

発明者： 塚本 美智徳 ,  寺本 正史 ,  中野 浩二
出願人/特許権者： 三菱化学株式会社
代理人 (1件)： 長谷川 曉司
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-174380
公開番号（公開出願番号）：特開2000-007729
出願日： 1998年06月22日
公開日（公表日）： 2000年01月11日
要約：

【要約】【課題】 感放射線組成物の構成成分である水酸基が保護されたフェノール性化合物の製造にあたり、人体に対して安全であり、使用前の脱水操作を必要とせずに目的とする反応率が得られ、かつ、反応生成物を水中で沈殿させることができ、安価に生成物を得られる方法を提供するとともに、半導体集積回路製造用レジストとして好適な感放射線組成物を得る。【解決手段】 酸触媒の存在下でフェノール性化合物とエノールエーテルを、1,3-ジオキソランを含む溶媒中で反応させて水酸基が保護されたフェノール性化合物を製造し、これを用いて感放射線組成物を調製する。

請求項（抜粋）：

酸触媒の存在下でフェノール性化合物とエノールエーテルを反応させて水酸基が保護されたフェノール性化合物を製造する方法において、1,3-ジオキソランを含む溶媒中で反応を行うことを特徴とする水酸基が保護されたフェノール性化合物の製造方法。

IPC (7件)：

C08F 8/00 ,  C08F 12/24 ,  G03F 7/004 515 ,  G03F 7/039 601 ,  H01L 21/027 ,  C07D309/10 ,  C07D317/08

FI (7件)：

C08F 8/00 ,  C08F 12/24 ,  G03F 7/004 515 ,  G03F 7/039 601 ,  C07D309/10 ,  C07D317/08 ,  H01L 21/30 502 R

Fターム (34件)：

2H025AA00 ,  2H025AA02 ,  2H025AB16 ,  2H025AC01 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BE10 ,  2H025BJ10 ,  2H025CB17 ,  2H025CB41 ,  2H025CC03 ,  2H025FA17 ,  4C062AA22 ,  4J100AB07P ,  4J100AD02Q ,  4J100AJ02Q ,  4J100BA03P ,  4J100CA01 ,  4J100CA04 ,  4J100CA31 ,  4J100HA43 ,  4J100HB25 ,  4J100HB26 ,  4J100HB44 ,  4J100HB52 ,  4J100HB58 ,  4J100HC05 ,  4J100HC13 ,  4J100HC54 ,  4J100HC63 ,  4J100HC69 ,  4J100HC71 ,  4J100HC75 ,  4J100JA46