特許
J-GLOBAL ID：200903057886849157
重合体及びその製造方法、並びにそれを含有する膜形成用組成物
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
岩見谷 周志
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-131385
公開番号（公開出願番号）：特開2002-322245
出願日： 2001年04月27日
公開日（公表日）： 2002年11月08日
要約：
【要約】【課題】 短時間焼成が可能であり、耐熱性、密着性及びクラック耐性に優れ、低誘電性の膜を得ることができる膜形成用組成物、そのための重合体及びその製造方法を提供する。【解決手段】 特定のジハロゲン化物(例えば4,4’-ビス(2-ヨードフェノキシ)ベンゾフェノン)と特定のジエチニル化合物(例えば4,4’-ジエチニルジフェニルエーテル)とを触媒の存在下で反応させ、特定の構造を有する重合体を得る。この重合体を溶媒に溶解して膜形成用組成物を得る。
請求項（抜粋）：
下記一般式(1)【化1】[式中Zは下記一般式(2)及び下記一般式(3)【化2】【化3】(式中、R1及びR2は、独立に単結合、-O-、-CO-、-CH2-、-COO-、-CONH-、-S-、-SO2-、フェニレン基、フルオレニレン基、又は式:【化4】で表される2価の基を表わし、R3、R4、R5及びR6は、独立に、炭素原子数1〜20の炭化水素基、シアノ基、ニトロ基、炭素原子数1〜20のアルコキシル基又はアリール基を表わし、aは1〜3の整数を示し、b、c、d及びeは、独立に0〜4の整数を示す。)で表わされる2価の芳香族基からなる群から選ばれる少なくとも1種の2価の芳香族基であり、Yは、下記一般式(4)及び一般式(5)【化5】【化6】(式中、R7及びR8は、独立に単結合、-O-、-CO-、-CH2-、-COO-、-CONH-、-S-、-SO2-、フェニレン基、又はフルオレニレン基を表わし、R9、R10、R11及びR12は、独立に、炭素原子数1〜20の炭化水素基、シアノ基、ニトロ基、炭素原子数1〜20のアルコキシル基又はアリール基を表わし、fは0〜3の整数を示し、g、h、i及びjは、独立に0〜4の整数を示す。)で表される2価の芳香族基からなる群から選ばれる少なくとも1種の2価の芳香族基である。]で表される繰返し単位を有する重合体。
IPC (5件)：
C08G 61/00
, C08J 5/18 CEZ
, C09D165/00
, C09D201/00
, C08L 65:00
C08G 61/00
, C08J 5/18 CEZ
, C09D165/00
, C09D201/00
, C08L 65:00
4F071AA69
, 4F071AH12
, 4F071BA02
, 4F071BB02
, 4F071BC02
, 4J032CA04
, 4J032CB04
, 4J032CC01
, 4J032CD02
, 4J032CD07
, 4J032CE03
, 4J032CG08
, 4J038DN011
, 4J038KA06
, 4J038KA08
, 4J038KA09
, 4J038LA02
, 4J038NA12
, 4J038NA14
, 4J038NA17
, 4J038NA21
, 4J038NA23
, 4J038PA19
, 4J038PB09
, 4J038PC02
, 4J038PC08
