特許
J-GLOBAL ID：200903057888040177
浄化装置および浄化方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
長谷川 芳樹 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-043497
公開番号（公開出願番号）：特開平11-239717
出願日： 1998年02月25日
公開日（公表日）： 1999年09月07日
要約：
【要約】【課題】 光の光触媒への照射率を向上させ、浄化効率を上昇させるとともに、下水、焼却炉の排煙等の大量の産業廃棄物を浄化できる浄化装置および浄化方法を提供すること。【解決手段】 被浄化物9が流入する複数の流入口7を備えた流入面5、被浄化物9が流出する複数の流出口8を備えた流出面6、および流入口7と流出口8を繋ぐ複数の孔を3有するとともに、光が孔3の伸延方向に交差して入射される光透過性の多孔体2と、多孔体2内の流入面5、流出面6及び孔3の内壁面に設けられ、光が照射された際に活性化される光触媒4とを備えることを特徴とする。
請求項（抜粋）：
被浄化物が流入する複数の流入口を備えた流入面、被浄化物が流出する複数の流出口を備えた流出面、および前記流入口と前記流出口を繋ぐ複数の孔を有するとともに、光が前記孔の伸延方向に交差して入射される光透過性の多孔体と、前記多孔体内の前記流入面、前記流出面及び前記孔の内壁面に設けられ、前記光が照射された際に活性化される光触媒と、を備えることを特徴とする浄化装置。
IPC (4件)：
B01D 53/86 ZAB
, B01J 35/02
, C02F 1/30
, C02F 1/72 101
B01D 53/36 ZAB J
, B01J 35/02 J
, C02F 1/30
, C02F 1/72 101
