特許
J-GLOBAL ID：200903057898894972
マイクロ波を用いた薄膜形成装置及び方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
三好 秀和 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-369966
公開番号（公開出願番号）：特開平11-283927
出願日： 1998年12月25日
公開日（公表日）： 1999年10月15日
要約：
【要約】【課題】 微細で均一な構造の膜を速かに形成できる薄膜形成装置及びその方法を提供する。【解決手段】 基板とその上のスートとからなる試片を密閉してマイクロ波に露出させて焼結させるマイクロ波焼結炉と、マイクロ波焼結炉内部の空気状態、即ち雰囲気を調節する焼結炉雰囲気組成部と、マイクロ波焼結炉内の温度を感知して所定の基準温度と比較してその誤差温度を出力する温度感知/調節器と、温度感知/調節器から出力された誤差温度を参照して所定温度のマイクロ波を発生してマイクロ波焼結炉に印加するマイクロ波電源部とから薄膜形成装置を構成した。
請求項（抜粋）：
基板上に与えられた所定のスートを高密度化させて基板上に薄膜を形成する焼結装置において、前記基板とその上のスートとからなる試片を密閉しマイクロ波に露出させて焼結させるマイクロ波焼結炉と、前記マイクロ波焼結炉の内部雰囲気を調節する焼結炉雰囲気組成部と、前記マイクロ波焼結炉内の温度を感知して所定の基準温度と比較してその誤差温度を出力する温度感知/調節器と、前記温度感知/調節器から出力された誤差温度を参照して所定パワーのマイクロ波を発生して前記マイクロ波焼結炉に印加するマイクロ波電源部とを含むことを特徴とするマイクロ波を用いた薄膜形成装置。
IPC (6件)：
H01L 21/205
, B01J 19/12
, C23C 16/40
, C23C 16/44
, C23C 16/52
, G05D 23/19
H01L 21/205
, B01J 19/12 G
, B01J 19/12 A
, C23C 16/40
, C23C 16/44 B
, C23C 16/52
, G05D 23/19 J
