特許
J-GLOBAL ID:200903057931434923

揮発性有機塩素化合物の処理方法及び装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 吉嶺 桂 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平5-329605
公開番号(公開出願番号):特開平7-155543
出願日: 1993年12月02日
公開日(公表日): 1995年06月20日
要約:
【要約】【目的】 紫外線分解法において、十分な分解ができしかも効率的で安全な揮発性有機塩素化合物の処理方法とその装置を提供する。【構成】 揮発性有機塩素化合物を含有する気相中に水素源を付加した後、該気相を紫外線に曝露して前記気相中の揮発性有機塩素化合物を分解することを特徴とする揮発性有機塩素化合物の処理方法としたものであり、該処理装置として、揮発性有機塩素化合物を含有する気相21中に水蒸気又は水素を含む気体23を付加する水素源付加装置22と、該水素源を付加された揮発性有機塩素化合物24を含む気体に紫外線25を照射する紫外線照射装置26とを有し、さらに紫外線照射後の気体27をアルカリ剤により処理する湿式中和装置28とを備えたこととしたものである。
請求項(抜粋):
揮発性有機塩素化合物を含有する気相中に水素源を付加した後、該気相を紫外線に曝露して前記気相中の揮発性有機塩素化合物を分解することを特徴とする揮発性有機塩素化合物の処理方法。
IPC (4件):
B01D 53/70 ,  B01D 19/00 ,  B01D 53/34 ZAB ,  C02F 1/20
FI (2件):
B01D 53/34 134 E ,  B01D 53/34 ZAB Z
引用特許:
審査官引用 (4件)
  • 特開昭62-191095
  • 特開昭61-200836
  • 特開昭62-068859
全件表示

前のページに戻る