特許

J-GLOBAL ID：200903057937108440

静電吸着方法,静電吸着装置、及びそれを用いた半導体製造装置

発明者： 大木 克夫
出願人/特許権者： 株式会社日立ハイテクノロジーズ
代理人 (1件)： 作田 康夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-123114
公開番号（公開出願番号）：特開2004-327875
出願日： 2003年04月28日
公開日（公表日）： 2004年11月18日
要約：

【課題】試料が反っている場合でも、歪を発生させることなく静電吸着を実施可能とする。【解決手段】少なくとも2つ以上の独立した独立電極群を有し、該独立電極群の各電極毎に電圧の印加又は遮断を制御する複数のスイッチと、独立電極群の各電極毎に流れる電流を計測する複数の電流検出部と、該電流検出部から出力される独立電極群の各電極毎の電流情報を読み込むコントローラとから構成し、各電極毎に設けられたスイッチの印加又は遮断を任意の順番で行う。【選択図】 図1

請求項（抜粋）：

試料と、該試料に対面して絶縁体を挟むように設けられた電極の間に電圧を印加し、静電吸着力で前記試料を固定する静電吸着装置において、 前記電極が少なくとも2つ以上の独立した独立電極群と、該独立電極群の各電極毎に電圧の印加又は遮断が可能な印加遮断切換手段から構成されたことを特徴とする静電吸着装置。

IPC (4件)：

H01L21/68 ,  B23Q3/15 ,  H01L21/027 ,  H02N13/00

FI (5件)：

H01L21/68 R ,  B23Q3/15 D ,  H02N13/00 D ,  H01L21/30 503A ,  H01L21/30 541L

Fターム (12件)：

3C016GA10 ,  5F031CA02 ,  5F031HA18 ,  5F031HA19 ,  5F031JA45 ,  5F031JA51 ,  5F031MA27 ,  5F031PA13 ,  5F031PA30 ,  5F046CC08 ,  5F056EA14 ,  5F056EA15