特許
J-GLOBAL ID：200903057941407576
導電体及びその製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
佐藤 隆久
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-126783
公開番号（公開出願番号）：特開平5-222515
出願日： 1991年04月30日
公開日（公表日）： 1993年08月31日
要約：
【要約】【目的】 本発明の目的は、長期間放置しても表面が劣化せず、しかも安定した導電性が得られる導電体およびその製造方法を提供することである。【構成】 本発明の導電体2は、少なくとも表面側に導電性の酸化性金属6が存在する導電体において、酸化性金属6の表面に、導電性が得られる程度の膜厚で、ハロゲン元素を含む改質層9が形成してある。また、本発明の導電体の製造方法は、少なくとも表面側に導電性の酸化性金属6が存在する導電体を、酸素雰囲気中、引続きハロゲンガスとの混合ガス雰囲気中で、プラズマ処理を行い、酸化性金属6の表面にハロゲン元素を含む改質層9を形成することを特徴としている。
請求項（抜粋）：
少なくとも表面側に導電性の酸化性金属が存在する導電体において、酸化性金属の表面に、導電性が得られる程度の膜厚で、ハロゲン元素を含む改質層が形成してある導電体。
IPC (2件)：
引用特許：
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