特許

J-GLOBAL ID：200903057955809634

蛍光X線分析方法及びその装置

発明者： 脇阪 達司 ,  若狭 正信 ,  田中 正次 ,  森田 尚喜 ,  西萩 一夫 ,  寺田 慎一
出願人/特許権者： 花王株式会社 ,  株式会社テクノス
代理人 (1件)： 細田 芳徳
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-350602
公開番号（公開出願番号）：特開平6-174664
出願日： 1992年12月03日
公開日（公表日）： 1994年06月24日
要約：

【要約】【構成】分光結晶により単色化したX線を試料に照射し、発生する特性X線を半導体検出器で検出して重金属元素を定量する蛍光X線分析方法において、照射X線の波長域が異なる一対のX線照射源と分光結晶よりなるX線照射手段を複数設け、各々から順次X線を照射することにより、複数の分析対象元素を定量することを特徴とする蛍光X線分析方法、並びにこれに用いる蛍光X線分析装置。【効果】本発明の蛍光X線分析方法は、試料の前処理等の必要がなく迅速な分析が可能であり、複数の重金属元素が一度に分析でき、かつ検出下限にも優れる。従って、これを利用した本発明の蛍光X線分析装置は、化粧品、医薬品、部外品、食品等の分野において特に有用なものである。

請求項（抜粋）：

分光結晶により単色化したX線を試料に照射し、発生する特性X線を半導体検出器で検出して重金属元素を定量する蛍光X線分析方法において、照射X線の波長域が異なる一対のX線照射源と分光結晶よりなるX線照射手段を複数設け、各々から順次X線を照射することにより、複数の分析対象元素を定量することを特徴とする蛍光X線分析方法。