特許

J-GLOBAL ID：200903057957234884

レジスト組成物

発明者： 川口 泰秀 ,  児玉 俊一
出願人/特許権者： 旭硝子株式会社
代理人 (1件)： 野口 恭弘
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-173190
公開番号（公開出願番号）：特開2001-350265
出願日： 2000年06月09日
公開日（公表日）： 2001年12月21日
要約：

【要約】【課題】 アルカリ水溶液で現像可能で短波長の光源が適用でき、平坦性、ドライエッチング耐性、耐熱性等が優れた含フッ素光レジスト組成物を提供すること。【解決手段】 CF2=CX1X2(ただし、X1は水素原子またはフッ素原子、X2は水素原子、フッ素原子、塩素原子、炭素数3以下のパーフルオロアルキル基または炭素数3以下のパーフルオロアルコキシ基、を表す)で表される含フッ素モノマーのモノマー単位(a)、ブロック化された酸性基を有するモノマー単位(b)、含フッ素ノルボルネンのモノマー単位(c)を含む含フッ素ポリマー(X)、光照射を受けて酸を発生する酸発生化合物(Y)および有機溶媒(Z)を含むことを特徴とするレジスト組成物。

請求項（抜粋）：

CF2=CX1X2(ただし、X1は水素原子またはフッ素原子、X2は水素原子、フッ素原子、塩素原子、炭素数3以下のパーフルオロアルキル基または炭素数3以下のパーフルオロアルコキシ基、を表す)で表される含フッ素モノマーのモノマー単位(a)、ブロック化された酸性基を有するモノマー単位(b)、式1に示す含フッ素ノルボルネンのモノマー単位(c)を含む含フッ素ポリマー(X)、光照射を受けて酸を発生する酸発生化合物(Y)および有機溶媒(Z)を含むことを特徴とするレジスト組成物。【化1】式1において、XはF、フッ素含有アルキル基またはフッ素含有アルコキシ基を表す。

IPC (7件)：

G03F 7/039 601 ,  C08F214/18 ,  C08F232/00 ,  C08K 5/00 ,  C08L 27/12 ,  C08L 45/00 ,  H01L 21/027

FI (7件)：

G03F 7/039 601 ,  C08F214/18 ,  C08F232/00 ,  C08K 5/00 ,  C08L 27/12 ,  C08L 45/00 ,  H01L 21/30 502 R

Fターム (44件)：

2H025AA04 ,  2H025AA09 ,  2H025AA10 ,  2H025AA18 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BE07 ,  2H025BE08 ,  2H025BE10 ,  2H025BF09 ,  2H025BF11 ,  2H025BG00 ,  2H025CB45 ,  2H025CC03 ,  2H025FA17 ,  4J002BD141 ,  4J002BD151 ,  4J002BD161 ,  4J002BE041 ,  4J002BK001 ,  4J002EQ016 ,  4J002EU186 ,  4J002EV296 ,  4J002GP03 ,  4J100AB07Q ,  4J100AC24P ,  4J100AC26P ,  4J100AC27P ,  4J100AD07Q ,  4J100AE09P ,  4J100AE09Q ,  4J100AE18Q ,  4J100AJ01Q ,  4J100AR11R ,  4J100BA02R ,  4J100BB07Q ,  4J100BB07R ,  4J100BB18P ,  4J100BB18Q ,  4J100CA05 ,  4J100JA38