特許

J-GLOBAL ID：200903057963735569

洗浄剤組成物

発明者： 渡辺 孝次
出願人/特許権者： ライオン株式会社
代理人 (1件)： 阿形 明 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-016785
公開番号（公開出願番号）：特開平6-199653
出願日： 1993年01月08日
公開日（公表日）： 1994年07月19日
要約：

【要約】【構成】 (A)一般式R1O(R2O)nSO3M1及びR3SO3M2(R1はC8〜18のアルキル基又はアルキルフェニル基、R2はC2〜3のアルキレン基、nは0〜6、R3はC10〜18のアルキル基、アルケニル基又はC12〜16のヒドロキシアルキル基、M1及びM2は陽イオンである)で表わされる硫酸塩及びスルホン酸塩の中から選ばれた少なくとも1種5〜40重量%、(B)ポリガラクトマンナンガムの陽イオン誘導体0.05〜2.0重量%及び(C)沸点が10〜40°Cの脂肪族炭化水素0.5〜10重量%を含有する洗浄剤組成物。【効果】 容器から吐出されたのち、徐々に発泡してフォームを形成し、また髪などに容易に伸展することができ、しかも環境汚染をももたらすことがない。

請求項（抜粋）：

(A)(イ)一般式R1O(R2O)nSO3M1(式中のR1は炭素数8〜18のアルキル基又は炭素数5〜15のアルキル基を有するアルキルフェニル基、R2は炭素数2又は3のアルキレン基、nは平均値として0〜6の数、M1はアルカリ金属、一価に相当するアルカリ土類金属、アルキル基置換アンモニウム基又はヒドロキシアルキル基置換アンモニウム基である)で表わされる硫酸塩、及び(ロ)一般式R3SO3M2(式中のR3は炭素数10〜18のアルキル基、アルケニル基又は炭素数12〜16のヒドロキシアルキル基、M2はアルカリ金属、アルキル基置換アンモニウム基又はヒドロキシアルキル基置換アンモニウム基である)で表わされるスルホン酸塩の中から選ばれた少なくとも1種の陰イオン性界面活性剤5〜40重量%、(B)ポリガラクトマンナンガムの陽イオン誘導体0.05〜2.0重量%、及び(C)常圧での沸点が10〜40°Cの脂肪族炭化水素0.5〜10重量%を含有することを特徴とする洗浄剤組成物。

IPC (10件)：

A61K 7/50 ,  A61K 7/00 ,  A61K 7/02 ,  A61K 7/075 ,  C11D 10/02 ,  C11D 17/00 ,  D06L 1/12 ,  C11D 1:12 ,  C11D 7:32 ,  C11D 7:24