特許

J-GLOBAL ID：200903057972348438

着色パターン形成用インク受容層組成物およびそれを用いる着色パターン形成方法

発明者： 津島 宏 ,  石田 裕
出願人/特許権者： 日本ペイント株式会社
代理人 (1件)： 青山 葆 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-298651
公開番号（公開出願番号）：特開平11-129608
出願日： 1997年10月30日
公開日（公表日）： 1999年05月18日
要約：

【要約】【課題】 カラーフィルター製造時の露光工程を削減しかつパターン露光時間を短縮化し、さらに耐熱性を向上させるための着色パターン形成用インク受容層組成物およびそれを用いる着色パターン形成方法の提供。【解決手段】 式(I):【化1】(式中、R1およびR2は、それぞれ独立して、水素、あるいは置換もしくは未置換の脂肪族または芳香族炭化水素基を示し、R1およびR2のうち少なくとも一つは置換もしくは未置換の芳香族炭化水素基を含み、R3およびR4は、それぞれ独立して、水素、置換もしくは未置換の脂肪族または芳香族炭化水素基、あるいは炭素数1〜7のアルコキシ基を示し、R3およびR4のうち少なくとも一つは炭素数1〜7のアルコキシ基であり、nおよびmはいずれも1以上の整数である。)で表されるシリコン化合物を含有する着色パターン形成用インク受容層組成物。

請求項（抜粋）：

式(I):【化1】(式中、R1およびR2は、それぞれ独立して、水素、あるいは置換もしくは未置換の脂肪族または芳香族炭化水素基を示し、R1およびR2のうち少なくとも一つは置換もしくは未置換の芳香族炭化水素基を含み、R3およびR4は、それぞれ独立して、水素、置換もしくは未置換の脂肪族または芳香族炭化水素基、あるいは炭素数1〜7のアルコキシ基を示し、R3およびR4のうち少なくとも一つは炭素数1〜7のアルコキシ基であり、nおよびmはいずれも1以上の整数である。)で表されるシリコン化合物を含有する着色パターン形成用インク受容層組成物。

IPC (5件)：

B41M 5/00 ,  B41J 2/21 ,  C08L 83/04 ,  C09D183/04 ,  G02B 5/20 101

FI (5件)：

B41M 5/00 B ,  C08L 83/04 ,  C09D183/04 ,  G02B 5/20 101 ,  B41J 3/04 101 A