特許
J-GLOBAL ID:200903057974197712

ポリカーボネートの製造方法及び光学ディスク基板

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 東平 正道
公報種別:再公表公報
出願番号(国際出願番号):JP1999000037
公開番号(公開出願番号):WO1999-036458
出願日: 1999年01月08日
公開日(公表日): 1999年07月22日
要約:
【要約】ジヒドロキシ化合物と炭酸ジエステルとをエステル交換反応させることによりポリカーボネートを製造するにあたり、末端停止剤として、4-(1,1,3,3-テトラメチルブチル)フェノール等の特定の分岐を有する化合物を添加する。この方法で得られたボリカーボネートを成形して光学ディスク基板とする。流動性と耐衝撃性のバランスに優れたポリカーボネートを、有毒なホスゲンを原料として用いることなく製造する方法を提供し、また、かかる製造方法によって得られたポリカーボネートを成形することにより、複屈折が低く、転写性に優れた光学ディスク基板を提供する。
請求項(抜粋):
ジヒドロキシ化合物と炭酸ジエステルとをエステル交換反応させることによりポリカーボネートを製造するにあたり、末端停止剤として、下記一般式(1)で表される構造を有する化合物を添加することを特徴とするポリカーボネートの製造方法。(式中、Xは-OH,-COOH,-COCl又は-NH2であり、Rは炭素数5〜20の分岐構造を有するアルキル基であり、nは1〜5の整数である。)
IPC (2件):
C08G 64/30 ,  G11B 7/24

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