特許
J-GLOBAL ID：200903057977590105
プロキシミティー露光方法及びプロキシミティー露光装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
若林 忠
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-149079
公開番号（公開出願番号）：特開平9-330866
出願日： 1996年06月11日
公開日（公表日）： 1997年12月22日
要約：
【要約】【課題】 フォトマスクによる近接露光時にフォトマスクに異物が付着してしまい、その異物による隣接間ショートが発生していた。【解決手段】 露光する基板を搭載した基板吸着ステージ8を第1のフォトマスク3の真下に移動し、基板吸着ステージ8に設けたアライメントマーク9、10を基準に第1のフォトマスク3をアライメントし、通常露光量より小さいが解像するギリギリの露光量で1回目の近接露光を行ない、1回露光した基板を搭載した基板吸着ステージ8を第1のフォトマスク3と同一パターン形状の第2のフォトマスク5の真下に移動し、基板吸着ステージ8のアライメントマーク9、10を基準に第2のフォトマスク5をアライメントし、1回目と同じ露光量で2回目の近接露光を行なう装置である。
請求項（抜粋）：
露光する1枚の基板と、同一パターン形状の2枚のフォトマスクとを用意し、まず、1枚のフォトマスクと前記基板とをアライメントして前記基板に対し1回目の近接露光を行ない、次に、露光された前記基板ともう1枚のフォトマスクとを対向させてアライメントして、露光された前記基板に対し1回目の露光と同一条件で2回目の近接露光を行なうプロキシミティー露光方法。
IPC (3件)：
H01L 21/027
, G03F 7/20 521
, G03F 9/00
H01L 21/30 509
, G03F 7/20 521
, G03F 9/00 H
, H01L 21/30 510
