特許

J-GLOBAL ID：200903057992898116

基板洗浄方法

発明者： 箕輪 憲一
出願人/特許権者： 株式会社アドバンスト・ディスプレイ
代理人 (1件)： 朝日奈 宗太 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-263677
公開番号（公開出願番号）：特開平11-101970
出願日： 1997年09月29日
公開日（公表日）： 1999年04月13日
要約：

【要約】【課題】 基板の異物を完全に除去し、配向処理品の歩留りを向上させるとともに、洗浄時間の短縮と洗浄設備費の低減をすることができる基板洗浄方法を提供する。【解決手段】 シール材を介して貼り合わされる2枚の透明性基板からなる液晶パネルの製造工程における、前記透光性基板に配向膜を転写する配向膜転写処理前の基板洗浄方法であって、前記透光性基板2に異物除去膜3を塗布する工程と、該異物除去膜3を乾燥させる工程と、該異物除去膜3とともに前記透光性基板2に付着している異物1を除去する工程を含んでいる。

請求項（抜粋）：

シール材を介して貼り合わされる2枚の透明性基板からなる液晶パネルの製造工程における、前記透光性基板に配向膜を転写する配向膜転写処理前の基板洗浄方法であって、前記透光性基板に異物除去膜を塗布する工程と、該異物除去膜を乾燥させる工程と、該異物除去膜とともに前記透光性基板に付着している異物を除去する工程を含む基板洗浄方法。

IPC (3件)：

G02F 1/1333 500 ,  B08B 7/00 ,  C09D 5/00

FI (3件)：

G02F 1/1333 500 ,  B08B 7/00 ,  C09D 5/00 Z