特許
J-GLOBAL ID：200903057996003849
レジストの現像方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
井桁 貞一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-047570
公開番号（公開出願番号）：特開平7-263302
出願日： 1994年03月18日
公開日（公表日）： 1995年10月13日
要約：
【要約】【目的】 パドル方式のレジスト現像方法に関し、特にウェーハ上のレジストが現像されてなるレジストパターンのパターン幅のバラツキを小さくできるレジストの現像方法の提供を目的とする。【構成】 ウェーハ11を2000RPM以上で回転させているウェーハの周辺部から中心部に向けて30mm/秒以下の速度で移動する現像液供給手段22から現像液14を滴下してレジスト12を現像する工程と、現像液供給手段がウェーハの中心部に到達したらその移動を停止するとともに、ウェーハの回転を徐々に減速しながらレジストを現像する工程と、ウェーハの回転の停止と同時に現像液供給手段からの現像液の滴下も停止してレジスト上に現像液溜まり15を形成してそれを現像する工程とを含ませて構成する。
請求項（抜粋）：
レジストを表面上に被着したウェーハを水平にし、前記レジストをこの上に形成した現像液溜まりでもって現像するパドル方式のレジストの現像方法において、前記ウェーハ(11)をその中心部を回転中心にして2000RPM以上の回転速度で回転させるとともに、この回転速度でもって回転している前記ウェーハ(11)の直上をその周辺部から中心部に向けて30mm/秒以下の速度でもって移動する現像液供給手段(22)から前記現像液(14)を連続的に滴下し、前記レジスト(12)を現像する工程と、前記現像液供給手段(22)が前記ウェーハ(11)の中心部に到達したらその移動を停止するとともに、前記ウェーハ(11)の前記回転を徐々に減速しながらその上のレジスト(12)を現像する現像する工程と、前記ウェーハ(11)の前記回転の停止と同時に前記現像液供給手段(22)からの前記現像液(14)の滴下も停止して前記レジスト(12)上に現像液溜まり(15)を形成し、この現像液溜まり(15)によってレジスト(12)を現像する工程とを含んでなることを特徴とするレジストの現像方法。
IPC (2件)：
H01L 21/027
, G03F 7/30 502
H01L 21/30 569 C
, H01L 21/30 569 F
