特許
J-GLOBAL ID：200903057997595618
汚染物質除去方法及び装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
中島 淳 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-137040
公開番号（公開出願番号）：特開平8-332476
出願日： 1996年05月30日
公開日（公表日）： 1996年12月17日
要約：
【要約】【課題】 岩床、地下水及び土壌から汚染物質を除去する方法及び装置を提供する。【解決手段】 汚染物質領域にせん孔42を設け、せん孔に穴あきライザパイプ44を配置し、穴あきライザパイプの内側には穴あきライザパイプ内に配置されたオープニングを有する真空抽出パイプ30が配置され、パッキン61が真空抽出パイプと穴あきライザパイプとの間の環状空間の一部に配置され、真空抽出パイプに真空を加えて地下からガス及び液体をパッキンに誘導してガス及び液体を共通ストリームとして地表に移送し、共通ストリームから主に液体であるストリームと主にガスであるストリームを形成し、液体ストリームとガスストリームの少なくとも一方から汚染物質を除去する。
請求項（抜粋）：
地下の汚染物質領域から汚染物質を除去するための方法であって、汚染物質領域にせん孔を設け、せん孔に穴あきライザパイプを配置し、前記穴あきライザパイプの内側にはオープニングを有する真空抽出パイプが配置され、パッキンが真空抽出パイプと穴あきライザパイプとの間の環状空間の一部に配置され、真空抽出パイプに真空を加えて地下からガス及び液体をパッキンより下の穴あきライザパイプに誘導し、ライザパイプから真空抽出パイプに誘導してガス及び液体を共通ストリームとして地表に移送し、共通ストリームから主に液体であるストリームと主にガスであるストリームを形成し、液体ストリームとガスストリームの少なくとも一方から汚染物質を除去する、汚染物質除去方法。
IPC (2件)：
B09C 1/04 ZAB
, C02F 1/00
B09B 5/00 ZAB S
, C02F 1/00 A
, C02F 1/00 Z
