特許
J-GLOBAL ID:200903058001658275

有機EL素子の製造方法及び有機EL転写基板とその製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 高橋 詔男 (外3名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-170208
公開番号(公開出願番号):特開2000-077182
出願日: 1999年06月16日
公開日(公表日): 2000年03月14日
要約:
【要約】【課題】 有機EL素子の高精細及び大画面カラー化を可能にする有機EL素子の製造方法を提供する。【解決手段】 耐熱性ベースフィルムの少なくとも一方の面に発光性有機化合物を成膜した有機EL転写基板と、少なくとも透明電極を有する透明基板21とを間隔をあけて配置し、前記有機EL転写基板の前記発光性有機化合物のうち前記透明基板に転写したい領域のみを加熱して、前記発光性有機化合物を前記透明基板21に転写する有機EL素子の製造方法とする。
請求項(抜粋):
低熱伝導部材と高熱伝導部材とから構成された耐熱性ベースフィルムの少なくとも一方の面に、発光性有機化合物を成膜したことを特徴とする有機EL転写基板。
IPC (3件):
H05B 33/02 ,  H05B 33/10 ,  H05B 33/14
FI (3件):
H05B 33/02 ,  H05B 33/10 ,  H05B 33/14 A
引用特許:
審査官引用 (4件)
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