アセタール誘導ヒドロキシル芳香族ポリマーの製造および放射線感受性配合物における該ポリマーの用途

発明者： , , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：中林幹雄
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-543513
公開番号（公開出願番号）：特表2002-511505
出願日： 1999年04月14日
公開日（公表日）： 2002年04月16日
要約：

【要約】本発明は、酸性触媒の存在下でヒドロキシル含有ポリマーまたはモノマーをビニルエーテルおよびアルコールと反応させることによる混合アセタールポリマーを製造する方法を提供する。本発明の方法は、現場で(in situ)一つの反応により製造される混合アセタールに基づく新しいクラスのポリマーを提供する。混合アセタールポリマーは、合成が安価であると共に容易に再現可能である。得られた混合アセタールポリマーは、化学的に増幅されたレジスト組成物を製造するためにホト酸発生剤とブレンドされ溶媒に溶解される。パターンを形成する方法は、化学的に増幅されたレジスト組成物を形成する工程と、前記レジスト組成物を基板に被覆する工程と、化学線にレジスト被覆済み基板を画像状に露光させる工程と、前記レジスト被覆済み基板を現像することによりレジスト画像を形成する工程とを含む。

請求項（抜粋）：

モノマー単位の少なくとも一個が一個以上のペンダントヒドロキシル基を含む一個以上のモノマー単位をもつポリマーを生成させる工程と、酸性触媒の存在下で前記ポリマーと式R6R7C=CH-OR1のビニルエーテルおよび式R2OHのアルコールとを反応させると工程と、を含むアセタール樹脂を製造する方法。上記の二式中、R1は、直鎖、分岐または環式アルキル基、直鎖、分岐または環式ハロアルキル基、アラルキル基、あるいは以下の一般構造を有する置換フェニルメチレンであり、式中、各R9およびR10は、同じであるか、あるいは独立して水素または炭素原子数1〜6のアルキル基である;R2は、直鎖、分岐または環式アルキル基、直鎖、分岐または環式ハロゲン化アルキル基、芳香族基、あるいは以下の一般構造を有する置換フェニルメチレンであり、式中、R9およびR10は上で定義されている;R1およびR2は互いに異なり、R6およびR7は、同じであるか、あるいは独立して水素、直鎖、分岐または環式アルキル基、直鎖、分岐または環式ハロアルキル基、アリール基、アラルキル基、置換ハロアリール、アルコキシアリールまたはアルキルアリール基、あるいはR6とR7を組み合わせると、アルキレン鎖、アルキル置換アルキレン鎖またはオキシアルキレン鎖を形成することが可能である。

IPC (3件)：

C08F 12/24 , C08G 8/14 , G03F 7/039 601

FI (3件)：

C08F 12/24 , C08G 8/14 , G03F 7/039 601

Fターム (35件)：

2H025AA00 , 2H025AB16 , 2H025AB17 , 2H025AC01 , 2H025AC04 , 2H025AD03 , 2H025BE00 , 2H025BE07 , 2H025BG00 , 2H025CC04 , 2H025CC13 , 2H025CC20 , 2H025FA03 , 2H025FA12 , 2H025FA17 , 4J033CA02 , 4J033CA11 , 4J033CD04 , 4J033HA12 , 4J033HB10 , 4J100AB02Q , 4J100AB04Q , 4J100AB07P , 4J100AL03R , 4J100AL04R , 4J100AL05R , 4J100AL44R , 4J100BA03P , 4J100CA04 , 4J100CA05 , 4J100CA31 , 4J100HA43 , 4J100HC09 , 4J100HC13 , 4J100JA38

前のページに戻る