特許
J-GLOBAL ID:200903058021303210
磁気ディスク用基板及びその製造方法
発明者:
,
,
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
長谷川 曉司
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平5-209709
公開番号(公開出願番号):特開平6-139562
出願日: 1993年08月24日
公開日(公表日): 1994年05月20日
要約:
【要約】【構成】 ガラス基板をエッチング後、温度15°C以下で水洗することによる磁気ディスク用基板の製造方法、及び上記基板上に順次、下地膜、磁性膜、及び保護膜を形成して成る磁気ディスク。【効果】 上記の磁気ディスクは、その基板表面に突起を適度に形成しているため、ヘッドと磁気ディスク間の摩擦力および吸着力が軽減され、耐CSS特性および耐ヘッドスティック性が改善され、しかも、基板表面に形成された微小な凹部の深さが浅いため、S/N比に悪影響を及ぼさない。
請求項(抜粋):
ガラス基板をエッチングし、この上に磁性層を形成して磁気ディスクとするための基板を製造するにあたり、ガラス基板をエッチング後に温度15°C以下で水洗することを特徴とする磁気ディスク用基板の製造方法。
IPC (3件):
G11B 5/84
, C03C 15/00
, G11B 5/82
引用特許:
前のページに戻る