特許
J-GLOBAL ID:200903058067401682

排ガス処理装置及び方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 長谷川 芳樹 (外2名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-114954
公開番号(公開出願番号):特開2000-300951
出願日: 1999年04月22日
公開日(公表日): 2000年10月31日
要約:
【要約】【課題】 ダイオキシン等の除去効率が高く、炭素質吸着剤の劣化の少ない排ガス処理装置及び方法を提供する。【解決手段】 吸着塔3に導かれる排ガスのガス成分を測定手段9で測定し、SO2濃度が5ppm以上、Cl/SO2モル比が10以下となるよう脱塩剤貯留設備6からラインL7を介した脱塩剤投入量及びSO2貯留設備8からラインL9を介したSO2投入量並びにラインL12を介した脱離ガス投入量をそれぞれ制御装置10がバルブV1、V3、V5を制御することにより調整する。
請求項(抜粋):
排ガス中に含まれるダイオキシン及びその前駆物質を含む有害物質を炭素質吸着剤に吸着して除去する排ガス処理装置であって、前記排ガスに硫黄酸化物を投入する硫黄酸化物投入手段と、硫黄酸化物投入後の排ガスが導かれ、内部に充填されている炭素質吸着剤により排ガス中の有害物質を吸着除去する吸着塔と、前記吸着塔内の炭素質吸着剤を加熱して吸着物を脱離・分解するとともに前記炭素質吸着剤を再生する脱離分解塔と、前記吸着塔導入前の排ガスの塩素分と硫黄酸化物濃度をそれぞれ測定する測定手段と、前記測定手段による塩素分と硫黄酸化物濃度を基にして、前記硫黄酸化物投入手段による硫黄酸化物投入量を制御して、前記吸着塔に導入される排ガスの硫黄酸化物濃度を5ppm以上、塩素/硫黄酸化物のモル比を10以下に調整する制御手段と、を備えていることを特徴とする排ガス処理装置。
IPC (2件):
B01D 53/70 ,  B01D 53/34 ZAB
FI (2件):
B01D 53/34 134 E ,  B01D 53/34 ZAB
Fターム (27件):
4D002AA02 ,  4D002AA19 ,  4D002AA21 ,  4D002AC01 ,  4D002AC02 ,  4D002AC04 ,  4D002BA03 ,  4D002BA04 ,  4D002BA14 ,  4D002CA08 ,  4D002CA13 ,  4D002DA05 ,  4D002DA07 ,  4D002DA11 ,  4D002DA21 ,  4D002DA22 ,  4D002DA24 ,  4D002DA41 ,  4D002EA02 ,  4D002EA08 ,  4D002GA01 ,  4D002GA02 ,  4D002GA03 ,  4D002GB01 ,  4D002GB02 ,  4D002GB06 ,  4D002GB20
引用特許:
出願人引用 (2件) 審査官引用 (2件)

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