特許
J-GLOBAL ID：200903058070926044
薄い層を測定するための方法および装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
鈴江 孝一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-153282
公開番号（公開出願番号）：特開平5-018704
出願日： 1991年06月25日
公開日（公表日）： 1993年01月26日
要約：
【要約】【目的】 非鉄金属などの測定対象物を被覆する薄い層の厚さを測定する場合に、測定対象部材の形に依存していない測定結果を得る。簡単な方法で、オペレータが考え方を改めることなく測定できるようにする。【構成】 装置に関しては測定子11が少なくとも2つの異なるコイル装置18,36を持つ。方法に関しては両コイル装置18,36の異なる想定値から修正された層厚が算出される。非鉄金属などの測定対象物を被覆する薄い層の厚さを、磁気誘導方式又は渦電流方式に従う非破壊測定方法で、単に実際に存在する層厚のみならずまた測定対象物の形に依存する測定値を得る。
請求項（抜粋）：
コイル装置がコアに移動不能に巻きつけられ、コアの幾何学的中心とコイル装置の幾何学的中心が一致し、コイル装置は案内装置によって外へ導かれ、案内装置に出力値から層厚を計算するための評価回路が接続され、評価回路が層厚を算定する、方法であって、a)測定子は、同じ測定問題に対して夫々異なる出力値を出す少なくとも2つの異なるコイル装置を持ち、b)両コイル装置の測定中現れる出力値により層厚tを求め、計算装置において分析する、ことを特徴とする、薄い層を測定するための方法。
IPC (2件)：
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