特許
J-GLOBAL ID：200903058079003860
微細加工装置およびこれを用いたデバイス
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
長尾 達也
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-229045
公開番号（公開出願番号）：特開2004-071831
出願日： 2002年08月06日
公開日（公表日）： 2004年03月04日
要約：
【課題】転写後に離型する際のレジストの剥離性が良好で、モールドにレジスト等の異物が付着することが防止でき、安定したパターン形成が可能となる微細加工装置およびこれを用いたデバイスを提供する。【解決手段】凹凸型のパターンを形成した原版となるモールドを、被転写となる基板表面に塗布したレジストに押し付けることにより、レジスト表面にモールドのパターンを凹凸反転させて転写する微細加工装置において、被転写面の対向面以外にモールドを有する構成とする。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
凹凸型のパターンを形成した原版となるモールドを、被転写となる基板表面に塗布したレジストに押し付けることにより、レジスト表面にモールドのパターンを凹凸反転させて転写する微細加工装置において、被転写面の対向面以外にモールドを有することを特徴とする微細加工装置。
IPC (2件)：
FI (2件)：
H01L21/30 502D
, B81C1/00
