特許
J-GLOBAL ID：200903058082808080
光導波路およびその製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
伊藤 俊哉
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-317417
公開番号（公開出願番号）：特開2006-126680
出願日： 2004年11月01日
公開日（公表日）： 2006年05月18日
要約：
【課題】高分子系光導波路と比較して光透過性、耐熱性に優れ、また石英系光導波路と比較して加工性に優れた光導波路を提供する。【解決手段】基板1と、基板上に設けられたクラッド部3と、クラッド部3に埋め込まれたコア部4とを備えている光導波路100において、クラッド部は、その出発材料としてポリアミド酸を含む溶液とするイミド化反応によって形成されており、コア部は、その出発材料として加水分解性有機金属化合物を含む溶液とするゾルゲル法によって形成されていることにより、光透過性および耐熱性を高くすることができる。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
光を伝播するためのコア部と、該コア部に接するクラッド部とを備えた光導波路において、
前記クラッド部がフッ素化されたポリイミド材料で構成され、かつ、前記コア部がゾルゲル法により少なくともSiO2とZrO2とを含む透光材料で構成されていることによって、前記コア部の屈折率が前記クラッド部の屈折率より大きくなるように構成されていることを特徴とする光導波路。
IPC (2件)：
FI (2件)：
Fターム (5件)：
2H047KA04
, 2H047KA05
, 2H047PA01
, 2H047PA28
, 2H047QA05
