特許
J-GLOBAL ID:200903058084830783
液晶装置及びその製造方法、並びに電子機器
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
鈴木 喜三郎 (外2名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-053883
公開番号(公開出願番号):特開2001-242476
出願日: 2000年02月29日
公開日(公表日): 2001年09月07日
要約:
【要約】【課題】 透明電極を形成する際のフォトリソグラフィ工程が不要で、かつ、透明電極の薄膜化と低抵抗化が可能な液晶装置及びその製造方法、並びに電子機器を提供する。【解決手段】 一対の基板2、32間に液晶40を有し、そのうち少なくとも一方の基板2における他の基板32との対向面には、金属製の補助電極6で囲まれた領域内に注入された透明電極前駆体が固化して成る透明電極4が形成されている。
請求項(抜粋):
一方の基板と他方の基板の間に液晶を有し、少なくとも前記一方の基板における前記他の基板との対向面には、金属製の補助電極で囲まれた領域内に注入された液状の透明電極前駆体が固化して成る透明電極が形成されていることを特徴とする液晶装置。
IPC (7件):
G02F 1/1343
, G02F 1/1333 500
, G02F 1/1335 505
, G02F 1/1345
, G09F 9/00 338
, G09F 9/30 339
, G09F 9/30 349
FI (7件):
G02F 1/1343
, G02F 1/1333 500
, G02F 1/1335 505
, G02F 1/1345
, G09F 9/00 338
, G09F 9/30 339
, G09F 9/30 349 B
Fターム (68件):
2H090JB03
, 2H090JD14
, 2H090JD17
, 2H090LA01
, 2H090LA15
, 2H091FA02Y
, 2H091FC01
, 2H091FC21
, 2H091FC29
, 2H091FD04
, 2H091FD14
, 2H091FD24
, 2H091GA01
, 2H091GA03
, 2H091LA11
, 2H091LA12
, 2H091LA15
, 2H092GA05
, 2H092GA13
, 2H092HA04
, 2H092HA06
, 2H092JB02
, 2H092KB14
, 2H092MA05
, 2H092MA10
, 2H092MA12
, 2H092MA14
, 2H092MA15
, 2H092MA16
, 2H092MA18
, 2H092MA35
, 2H092NA25
, 2H092NA27
, 2H092NA28
, 2H092NA30
, 2H092PA08
, 2H092RA10
, 5C094AA02
, 5C094AA21
, 5C094AA36
, 5C094AA43
, 5C094AA44
, 5C094BA03
, 5C094BA43
, 5C094CA19
, 5C094CA24
, 5C094DA14
, 5C094DA15
, 5C094EA04
, 5C094EA05
, 5C094EA07
, 5C094EA10
, 5C094EB02
, 5C094ED03
, 5C094GA10
, 5C094HA03
, 5C094HA08
, 5C094HA10
, 5G435AA00
, 5G435AA16
, 5G435AA17
, 5G435BB12
, 5G435EE33
, 5G435GG12
, 5G435HH12
, 5G435HH14
, 5G435KK05
, 5G435KK09
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