特許

J-GLOBAL ID：200903058086851796

露光方法及びその装置並びに露光方式並びにマスク回路パターン検査方式

発明者： 野口 稔 ,  見坊 行雄 ,  押田 良忠 ,  芝 正孝 ,  吉武 康裕 ,  村山 誠
出願人/特許権者： 株式会社日立製作所
代理人 (1件)： 小川 勝男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-315976
公開番号（公開出願番号）：特開平5-160002
出願日： 1991年11月29日
公開日（公表日）： 1993年06月25日
要約：

【要約】 (修正有)【目的】白黒のマスクを用いて光学系の有する解像度以上の分解能でマスク上のパターンを基板上に結像する露光装置及びその方法を提供する。【構成】Hgランプ3101、集光レンズ3103、インテグレータ3104、多数の点光源を配列して形成された輪帯状の仮想の光源となる光源空間フィルタ3301、コンデンサレンズ3106、結像レンズ(縮小投影レンズ)3201、結像レンズ(縮小投影レンズ)3201の瞳の付近に設けられた結像空間フィルタ(瞳)3302、マスク100を位置決めするマスクステージ3401、ウェハ200を載置するウエハステージ3402より構成される露光系、および配線データ作成部1102、パターン変換部1104、パータン転写シミュレータ部1108、パターン生成部1106より構成されるパターン生成系1000、およびマスク製作系2000により構成される。

請求項（抜粋）：

マスクを照明する照明手段と、該照明手段によって照明されたマスクを透過あるいは反射する光を基板上に結像する結像手段と、該結像手段の光学的瞳付近に設置された空間フィルタとを備えたことを特徴とする露光装置。

IPC (3件)：

H01L 21/027 ,  G03F 1/08 ,  G03F 7/20 521

FI (4件)：

H01L 21/30 311 N ,  H01L 21/30 301 V ,  H01L 21/30 301 P ,  H01L 21/30 311 S

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 特開平2-166717
  
• 特開平3-027516
  
• 特開昭62-047129
  
• 特開平4-179958