特許
J-GLOBAL ID：200903058104027346
下水処理プロセスの制御方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
山口 巖
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-195587
公開番号（公開出願番号）：特開平5-038497
出願日： 1991年08月06日
公開日（公表日）： 1993年02月19日
要約：
【要約】【目的】下水をオキシデイションディッチ法で活性汚泥処理するとき、流入水量や水質の変動に対して機械式曝気装置の適切な運転条件を設定する。【構成】第1の方法は、処理水のpHの移動平均pHe を求め、pHe があらかじめ設定したpHとなるように曝気ローターの回転数を制御し、第2の方法は、pHe が設定したpHとなるように曝気ローターの運転時間を制御する。さらに第3の方法では、第1の方法と第2の方法とを組み合わせることにより、第1の方法または第2の方法を実施中に、いずれかに適した方法に自動的に切り替えることができる。
請求項（抜粋）：
下水を機械式曝気装置を有する無終端水路に流入させて活性汚泥処理した後、最終沈殿池から処理水を放流させるオキシデイションディッチ法を行なうに当たり、機械式曝気装置の複数個のロータの回転数または運転時間を制御装置からの信号によって調節する下水処理プロセスの制御方法において、処理水のpHを自動的に測定して3〜5日間の移動平均pHe を算出し、目標pHとして設定したpHs とpHe との偏差(pHs -pHe )を求め、この偏差が正のとき偏差に比例して機械式曝気装置の回転数を減じ、偏差が負のとき偏差に比例して機械式曝気装置の回転数を増し、かつ以上の演算結果に基づいて機械式曝気装置の回転数の変更を1日に1度の頻度で行なうことを特徴とする下水処理プロセスの制御方法。
IPC (3件)：
C02F 3/12
, C02F 3/14
, C02F 3/18
