特許
J-GLOBAL ID：200903058105079684
化学増幅型レジスト組成物
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
八田 幹雄 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-279070
公開番号（公開出願番号）：特開平10-153864
出願日： 1997年10月13日
公開日（公表日）： 1998年06月09日
要約：
【要約】 (修正有)【課題】 化学式1または化学式2の高分子及びPAGを含む化学増幅型レジスト組成物を提供する。【解決手段】 化学式1の高分子及びPAGを含む化学増幅型のレジスト組成物:式中R1 及びR2 はヒドロキシル基又はカルボキシル基を有するC1 〜C10の脂肪族炭化水素、R3 は水素原子又はメチル基、R4 はt-ブチル基あるいはテトラヒドロピラニル基、mおよびnは定数で、n/(m+n)=0.1〜0.5である。また、化学式2の高分子及びPAGを含む化学増幅型レジスト組成物:式中、XはC5 〜C8 である環式又は脂環式化合物、R1 は水素原子又はメチル基、R2 はt-ブチル基、テトラヒドロピラニル基、アダマンチル基よりなる群から選ばれるいずれか、mおよびnは定数で、n/(m+n)=0.1〜0.5である。
請求項（抜粋）：
化学式1の高分子及びPAG(Photoacid Generator)を含む化学増幅型レジスト組成物:【化1】ここで、R1 及びR2 はヒドロキシル基又はカルボキシル基を有するC1 〜C10の脂肪族炭化水素であり、R3 は水素原子又はメチル基であり、R4 はt-ブチル基あるいはテトラヒドロピラニル基であり、mおよびnは整数であり、n/(m+n)=0.1〜0.5である。
IPC (10件)：
G03F 7/039 601
, C08F220/10
, C08F222/06
, C08F232/00
, C08K 5/03
, C08K 5/375
, C08L 33/04
, C08L 35/00
, C08L 45/00
, H01L 21/027
G03F 7/039 601
, C08F220/10
, C08F222/06
, C08F232/00
, C08K 5/03
, C08K 5/375
, C08L 33/04
, C08L 35/00
, C08L 45/00
, H01L 21/30 502 R
