特許

J-GLOBAL ID：200903058118910668

エキシマレーザー用合成石英ガラス光学部材及びその製造方法

発明者： 西村 裕幸 ,  藤ノ木 朗 ,  松谷 利勝 ,  稲木 恭一 ,  加藤 俊幸 ,  嶋田 敦之
出願人/特許権者： 信越石英株式会社
代理人 (1件)： 武田 正彦 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-210622
公開番号（公開出願番号）：特開平6-016449
出願日： 1992年06月29日
公開日（公表日）： 1994年01月25日
要約：

【要約】 (修正有)【目的】 エキシマレーザー光を使用するリソグラフィ装置のステッパーレンズ及びその他光学部材に好適に使用することができるエキシマレーザー用合成石英ガラス光学部材を提供する。【構成】 10乃至100ppmのOH基の含有率、200ppm以下の塩素の含有率、1×1016分子数/cm3以下の水素分子含有率、Δnで、5×10-6以下の屈折率の均質性及び5nm/cm以下の複屈折を有するエキシマレーザー用合成石英ガラス光学部材は、揮発性けい素化合物を、酸水素炎により火炎加水分解し、生成する微粒子シリカを耐熱性基体上に堆積させて多孔質シリカ母材を製造し、該多孔質シリカ母材を高温脱水及び脱ガスを行い、次いで、均質化処理し次いでこの得られた該高均質石英ガラスを成形し、成形された高均質石英ガラスをアニール処理することにより製造できる。

請求項（抜粋）：

合成石英ガラス製のエキシマレーザー用光学部材において、10乃至100ppmのOH基の含有率、200ppm以下の塩素の含有率、1×1016分子数/cm3以下の水素分子含有率、Δnで5×10-6以下の屈折率分布の均質性及び5nm/cm以下の複屈折を有することを特徴とする合成石英ガラス製のエキシマレーザー用光学部材。

引用特許：

審査官引用 (1件)

• 特開平3-088743