特許
J-GLOBAL ID：200903058134320757
磁気ヘッドの製造方法、磁気ヘッド素子群を有する基板、及び、磁気ヘッド素子群を有する基板の製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
武 顕次郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-309238
公開番号（公開出願番号）：特開平8-167123
出願日： 1994年12月13日
公開日（公表日）： 1996年06月25日
要約：
【要約】【目的】 磁気抵抗効果型ヘッド及び記録再生分離型複合ヘッド素子の形成時において、静電気による素子の絶縁破壊を防止し、高い歩留りで素子を形成する。【構成】 磁気抵抗効果型ヘッドを構成する電極とシールド膜と、あるいは、電極とシールド膜及び誘導型薄膜磁気ヘッドの磁極とを電気的に接続して、基板上に多数のヘッド素子を形成する作製プロセスを実施し、素子の作製後、切り離す際に、前記接続を除去する。これにより、プロセス途中の静電気による素子の絶縁破壊を防止することができ、高い歩留りでヘッド素子を形成することができる。
請求項（抜粋）：
上部、下部シールド膜、磁気抵抗効果膜、該磁気抵抗効果膜にバイアス磁界を印加するためのバイアス膜、前記磁気抵抗効果膜に電気的に接続された電極、前記磁気抵抗効果膜及び電極と前記上部、下部シールド膜との間に形成された上部、下部ギャップ膜、バルクハウゼンノイズ抑止のために磁気抵抗効果膜と磁気的に接続され、かつ、その両端に形成された磁区制御膜等からなる磁気抵抗効果型ヘッド素子、または、前記磁気抵抗効果型ヘッド素子と誘導型薄膜磁気ヘッド素子とからなる記録再生分離型複合ヘッド素子の複数個を、前記電極と上部及び下部シールド膜とを電気的に接続して基板上に形成し、基板上に形成された前記磁気抵抗効果型ヘッド素子または記録再生分離型複合ヘッド素子を1個ずつ切り離し、前記電極と上部及び下部シールド膜との電気的な接続を切り離すことを特徴とする磁気ヘッドの製造方法。
IPC (2件)：
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