特許
J-GLOBAL ID:200903058148604022
プラズマ消毒システム
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
細井 貞行 (外2名)
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-568475
公開番号(公開出願番号):特表2003-533248
出願日: 2000年05月26日
公開日(公表日): 2003年11月11日
要約:
【要約】本発明は、医療器具のような物体の表面に存在する微生物(microorganism)を気体状のプラズマで滅菌、消毒する低温プラズマ消毒システムにおいて、プラズマ発生源として過酸化水素(H2O2)溶液を利用し、プラズマが発生する間、反応種として過酸化水素を使用し、また、プラズマを発生させる前に、やはり気体状の過酸化水素で前処理を行う工程を含む低温プラズマ消毒システムに関し、包装材(10)で包まれた被消毒物(9)が収納される反応容器(1)と、上記反応容器(1)内で被消毒物(9)の上側と下側にそれぞれ設けられるアノード(2)及びカソード(3)と、上記アノード(2)に流量調節器(4)を経由して設けられる注入加熱器(5)と、上記カソード(3)にインピーダンスマッチング回路(6)とインピーダンスマッチング制御器(7)を経由して設けられ、高周波電力を発生するプラズマ電力供給源(8)と、上記反応容器(1)の下部に設けられる真空ポンプ(11)とからなり、プラズマで消毒する前に、液状の過酸化水素溶液(12)を注入加熱器(5)を利用して一次的に気体状態に作った後、流量調節器(4)を利用して気体状の過酸化水素を所望の圧力に調節、注入して前処理を行う。
請求項(抜粋):
包装材(10)で包まれた被消毒物(9)が収納される反応容器(1)と、 上記反応容器(1)内で被消毒物(9)の上側に設けられるアノード(2)と、 上記反応容器(1)内で被消毒物(9)の下側に設けられるカソード(3)と、 上記アノード(2)に流量調節器(4)を経由して連結される注入加熱器(5)と、 上記カソード(3)にインピーダンスマッチング回路(6)とインピーダンスマッチング制御器(7)を経由して連結され、高周波電力を発生するプラズマ電力供給源(8)と、 上記反応容器(1)の下側に設けられる真空ポンプ(11)とからなり、 プラズマで滅菌する前に、注入加熱器(5)を利用して液状の過酸化水素溶液(12)を気体状態にした後、流量調節器(4)を利用して気体状の過酸化水素を所望の圧力に調節し注入して前処理を行うプラズマ消毒システム。
Fターム (8件):
4C058AA12
, 4C058BB06
, 4C058CC02
, 4C058DD06
, 4C058DD07
, 4C058DD11
, 4C058EE26
, 4C058KK06
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