特許
J-GLOBAL ID：200903058162436825
図形演算処理装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
田澤 博昭 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-253636
公開番号（公開出願番号）：特開平6-083030
出願日： 1992年08月31日
公開日（公表日）： 1994年03月25日
要約：
【要約】【目的】 LSIのパターンがつながる箇所を短時間で全て予測できる図形演算処理装置を得る。【構成】 図形データ単位の光強度分布より算出された図形データ間の光強度分布より抽出されたレジスト感度以上のレジスト感光パターンと、図形データファイルからの図形データを比較し、また基準図形データを順次移動させて、その上下左右の図形データに位相シフトパターンデータを生成し、また位相シフトパターンデータ生成後の図形データと基準図形データより算出された図形データ間の光強度分布に対するレジスト感光パターンと、図形データファイルからの図形データを比較する。【効果】 短時間で高品質のLSIレイアウトパターンデータが得られる。
請求項（抜粋）：
図形データを図形データファイルより読み込む図形データ読み込み手段と、前記図形データの処理に必要な、光周波数、光強度演算式、レジスト感光光強度などのプロセステクノロジーをプロセステクノロジーファイルより読み込むプロセステクノロジー読み込み手段と、前記図形データの演算に必要な、光強度分布の間隔などのパラメータをパラメータファイルより読み込むパラメータ読み込み手段と、前記プロセステクノロジー読み込み手段より読み込まれた前記光周波数および光強度演算式と、前記パラメータ読み込み手段より読み込まれた光強度分布の間隔を用いて、前記図形データ毎にその光強度分布を演算する第1の演算手段と、前記第1の演算手段にて算出された前記図形データ単位の光強度分布より、前記図形データ間の光の干渉で発生する図形データ間の光強度分布を演算する第2の演算手段と、前記第2の演算手段にて算出された前記図形データ間の光強度分布より、前記プロセステクノロジー読み込み手段より読み込まれた前記レジスト感光光強度以上の値を示す帯域をレジスト感光パターンとして抽出する感光パターン抽出手段と、前記感光パターン抽出手段にて抽出された前記レジスト感光パターンと前記図形データ読み込み手段より読み込まれた前記図形データとの比較を行う比較手段と、前記比較比較における比較結果を比較結果図形データファイルに出力する比較結果出力手段とを備えた図形演算処理装置。
IPC (2件)：
G03F 1/08
, G06F 15/60 370
